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拓荆科技主要从事半导设备的研发、生产、销售和技术服务。公司的半导薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子化气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。
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